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IBM与MII共同开发纳米压印光刻介电材料
作者：:Mark LaPedus

IBM公司与Molecular Imprints Inc.(MII)正合作开发介电材料，以推动面向主流芯片制造的纳米压印光刻(nano-imprint lithography)技术的开发。这是MII联合创始人兼美国德州大学化学工程系教授Grant Wilson日前在SPIE微光刻研讨会上透露的

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