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45纳米节点使用的高K介质仍在开发阶段
作者：:来大伟, David Lammers

到今年夏天，负责工艺技术的主管们就需要将工作重点锁定在45纳米芯片制造节点的工艺流程上。但直到现在，一项至关重要的技术仍停留在开发阶段：它就是需要在晶体管中心部位取代二氧化硅绝缘介质的高K值栅介质。

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