用户登录 首页 / 用户登录

设计水平晋级90纳米，IP问题日益凸显
作者：:胡萍

中国集成电路设计产业在历经前几年数量上的激增之后，2005年开始步入理性发展期。一些具有自主创新能力的企业脱颖而出，逐步成为行业的中坚力量。基于《电子工程专辑》年度中国IC设计公司调查的结果，本文将从设计水平、热点应用、技术挑战、IP及EDA工具使用情况等方面解读本土IC设计公司的发展与变化。

请登陆网站阅读全文>>

邮箱地址：
密码： 登录密码区分大小写
记住我的密码 忘记密码?
 
如果您已经是以下网站的注册用户，请使用您当时的注册帐号登陆

电子工程专辑旗下网站
技术文章下载专区
我是工程师

“我是工程师”第二期论坛有奖活动现已圆满结束，获奖用户已经诞生，请及时关注！

话题PK台

搜集工程师们最关心的话题，发表您的真知灼见。

奥运科技专栏
热门关键词
  •  3G
  •  HDMI
  •  MCU
  •  ADC
  •  ARM
  •  机顶盒
  •  RFID
  •  ZigBee
返回页首