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最新测试技术在芯片良率提高中发挥新作用
作者::Mark Chadwick

在纳米设计时代,为了实现更高的良率,人们对新的缺陷诊断技术的需求越来越大。新的诊断技术可被用于从有价值的数据中探测故障机制,最终发现造成故障的根本原因,并找到能够校正损失的机制。利用这些高性能的自动化缺陷诊断系统,使得故障分析可以在更多的样品上进行,从而缩短良率学习周期,进而缩短上市时间并改善产品质量。

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