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Sokudo推45nm制造新工艺,实现更高生产能力
作者::Mark LaPedus

Sokudo公司推出用于45纳米及以上制造节点的涂布/显影系统RF3S,提供小于0.8纳米、3 sigma临界尺寸 (CD)的均匀性和低于每平方厘米0.1缺陷的沉浸缺陷密度,具有每小时180晶片的吞吐能力。

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