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IMEC宣布32纳米光刻技术取得进展，两次图形曝光技术将成主流

在Semicon West展销会上，比利时研究机构IMEC宣布在32纳米光刻技术方面取得进展，两次图形曝光技术(double patterning)比其他技术发展更快。

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