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Mapper无掩膜光刻机开发获重大进展，可实现批量并行电子束印刷


Mapper Lithography公司日前表示，它已经在其用于高端芯片制造的多束无掩模光刻机的开发上取得了重要进展。该公司演示了它的产品能够实现批量并行电子束印刷，它的演示机上展示了45纳米密度模式（32纳米节点）和多个并行电子束。

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